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반도체 용어집 3 (N~Z)  

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내용 N+
N형 반도체에 있어서 특히 도우너 불순물의 농도가 높은 부분이 있다는 것을  나타낼 때 N+를 사용한다.

N-
N형 반도체 영역에 있어서 불순물 농도가 특히 낮은 부분을 나타낼 때 쓰인다.

Nail Heading
다층기판의 내층회로에 있어서 홀드릴에 의하여 회로가 퍼진  상태.

NAND
논리회로중 논리 부정 회로와 AND 논리적 회로를 하나로 만든 것.

Nano
단위(10의 -9승).

Nano Line
빛의 간섭효과를 이용하는 것으로 입사광의 파장변화에 따른 반사광의 Intensity를 측정해서 박막의 두께 및  반사도를 측정하는 장비.  Wafer의 CD 값을 측정하는 기구로써, 사진이나 식각 공정에서 사용

Nano Spec
Wafer위에 입혀진 물질의 두께를  측정하는 장비로서, 확산, 박막, 사진, 식각공정에서 사용.

Narrow Width  Effect
MOSFET의 TR   width가 작아지면서  Threshold voltage가 증가하는 현상을  말하며, 이는 Gate  induced space charge의  일부가  fringing field에 의해 작아지므로 같은 양의  depletion charge를
얻기 위해서는 voltage가 증가해야 하는  것과 channel stop dopant  및 birds beak에  의해  activeedge쪽 gate 아래 substrate가  상대적으로 high density, thick gate oxide 양상을 보이는 것으로  설명될 수 있다.

National Reference Standard
원기에 의하여  교정되는 표준기기로 2차급의 표준기기를 교정하는 데 사용되는 것.

National Standard
계측 분야별 7개 기본 단위·유도단위 및 기타 특수단위에 대하여 최고 정도를 갖는 국가의 현시용 및 유지용 표준기기.

Navigation TFT-LCD
LCD의 일종으로 항법 장치에 사용되는 디스플레이로 경량, 박형이며  인명에 관계된 것이기 때문에 고신뢰성이 요구된다.

N- Channel
P형 기판에 확산 영역을 형성한  절연게이트형 FET에 있어서 소오스, 드레인간을 흐르는 전류의 통로인 채널이 전자에 의해서 형성되는 것을 N-Channel이라고 한다.

NC(No Connecton)
아무것도 접속하지 않는다는 것을 나타냄.

Neat Phase
일반적으로 물을 그다지 함유하지 않은 표면 활성제, 비누, 복합지질 등의 계가 두 개의 분자층사이에 균등하게 물을  함유한 Lamella 구조의  상태를 말함.

Necking
Interconnect line이 가늘어지는 현상.

Negative LCD
Normally black라고도 하며 검은바탕에 흰문자가 나타난다.

Negative Resistance
전압을 증가시킨 경우 전류가 감소하는 특성이  있을 때 Negative Resistance라고 한다. 지금까지  알려진 부성저항은 어떤  한정된 전압  범위에서 발생하며 전압을 계속 증가시킨다고 해서 전류가 계속 감소하는 것은 아니다.

NEMA(National Electrical Manufacturer Association)
미국 전기 제조자 협회. EIA(전자공업회)와 합동으로 JEDEC 설립.

Mematic LC
분자의 장축을 대개  일정방향으로 배향하고 분자의 중심이 랜덤하게 분포되어 있는 역동성(易動性)을 가진 액정.

NET(Normes Europeennes de Telecommunications)
유럽 전기통신규격.

Net Die
Wafer 內에서 실제로 만들어지는 Total Die 수.

Netlist
회로 설계가 끝난후 Simulation 혹은 layout을  하기 위해 그려진 회로도에서 사용된 소자 종류, 크기, 소자와 소자의 연결상태, 그리고  Signal  name이 추출되어 수록된 file.

Nibble
4Bit로 이루어진 단어.

Nibble Mode
컴퓨터 시스템이 데이터를 Access하는 중 Past fage mode의 변형형태로서  스피드 개선을  목적으로 만들어짐.  시스템이 1개의 데이터  Access  signal을 발생시 4개의 데이터가 연속적으로 출력되는 상태를 말함.

N-Butyl Acetate
Rinse 용액으로 현상(Develop) 후 녹은  감광액을 없애는데 사용.

N-CH Field Implant
Field Region의 VT를 증가시켜 Cell과 Cell간의 절연성을 높이기 위하여   Field Oxide가 성장할 부위와 같은 종류의 ION을 주입한다.

NICS(Newly Industrializing Conntries)
신흥공업국 또는 중진국. 1970년대를 통해 개발도상국 가운데 금속한  공업화를 이룩하여 GNP에서 차지하는 공업점유율이 25∼45%로 거의  선진공업국에 가까운  비율에올라선 나라를 통칭하는 말이다.

NF(Noise Figure)
잡음지수.

Nitride
유전상수 및 밀도가 높은 Amorphous 상태의 절연막으로 실리콘의 PN 접합 표면을 안정화하는 방법의 하나. 반도체 용어로는 주로 질화 실리콘(Si3 N4)을 가리킨다.

Nm3
0℃, 760mmHg 때의 가로 1m, 세로 1m, 높이  1m 크기의 기체의 부피.

NMI(Non-Maskable Interrupt)
NMI는 메모리에 문제가  발생할 경우 CPU에서 처리를 요구하는 신호이며  Interrupt  Mask의 영향을 받지 않는 가장  높은 우선 순위있는  Interrupt이며 Parity Error 발생시 NMI가 발생된다.

No  Calibration Required
교정검사가 요구되지